今天漓源環(huán)保給大家介紹一下含硅高鹽廢水處理，氯堿工業(yè)是通過電解飽和鹽水(nacl溶液)來獲得氫氣(h2)、氯氣(cl2)和氫氧化鈉(一種強堿，化學(xué)式naoh)溶液。其主要工藝流程是向化鹽池內(nèi)注入水，并且加入粗鹽(粗氯化鈉晶體，化學(xué)式nacl，粗鹽中含有許多其它雜質(zhì))，在化鹽池內(nèi)生成了飽和鹽水(nacl溶液)，稱為一次鹽水。一次鹽水經(jīng)過添加各種精制試劑，除去雜質(zhì)后得到精制鹽水。精制鹽水進入電解槽，在離子膜上發(fā)生電解反應(yīng)，生成氣相的氫氣、氯氣和氫氧化鈉溶液。

在整個工藝流程中，核心設(shè)備是電解槽上的離子膜。一次鹽水中的一些雜質(zhì)離子勢必影響到離子膜的運行。為了保證離子膜的高性能運行，必須將一次鹽水中影響離子膜運行的雜質(zhì)離子除去，因此一次鹽水的精制過程必須嚴(yán)格進行。

一次鹽水中有多種陽離子雜質(zhì)，其中對離子膜無害的雜質(zhì)有k+、fe2+、fe3+，對離子膜有害的雜質(zhì)有ca2+、mg2+、ba2+、sr2+、ni2+、al3+、含si化合物。在這些對離子膜有害的雜質(zhì)中，ca2+、mg2+、ba2+、sr2+、ni2+的碳酸鹽均不溶于水，al3+與發(fā)生雙水解反應(yīng)。

上述的幾種除硅方法或添加試劑種類繁多，或用量較大；且進入高電流密度自然循環(huán)復(fù)級式膜極距離子膜電解槽的精制鹽水指標(biāo)中，二氧化硅(sio2)濃度不得高于2.3mg/l。含硅高鹽廢水處理經(jīng)過上述幾種除硅方法處理后，硅濃度仍然較高，不滿足指標(biāo)，因而不能進入電解槽回收利用。

現(xiàn)如今，環(huán)境保護日益受到社會關(guān)注，企業(yè)三廢排放的要求越來越嚴(yán)格。節(jié)能減排逐漸成為企業(yè)不可避免且亟需解決的問題。有鑒于此，新的含硅高鹽廢水處理的除硅工藝，有效解決含硅高鹽廢水的排放問題，將含硅高鹽廢水除硅后用于氯堿工業(yè)。既做到了節(jié)能減排，又做到了節(jié)約成本。

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